Nachdem es bei seinem Heimspiel in Valencia gar nicht rund lief, schaffte es Dani Clos in Silverstone zwei Mal auf das Podium. In beiden Rennen holte er den dritten Platz, heute wäre es beinahe noch der zweite Rang geworden - doch am Ende führte kein Weg am Lokalmatador Oliver Turvey vorbei.

"Mir ist wieder ein guter Start gelungen und ich habe es erneut auf das Podium geschafft", freute sich Clos über das gelungene Wochenende. "Am Ende hat Maldonado viel Druck ausgeübt, aber ich konnte ihn hinter mir halten. Nachdem ich Valesecchi überholen konnte, habe ich die Lücke zu Turvey geschlossen, aber er hat seine Position gut verteidigt."

Schon mit dem ersten Rennen überzeugte Clos mit einer guten Leistung. "Dort habe ich Sam Bird hinter mir gehalten, nachdem die ersten Beiden schon zu weit enteilt waren. Es waren in jedem Falle wieder wichtige Punkte für mich."

Am nächsten Rennwochenende in Hockenheim wünscht sich der Spanier ähnliche Ergebnisse. "Ich kenne die Strecke bereits aus der Formel 3. Für alle Fahrer geht es dann wieder von Null los und ich werde von der ersten Runde an angreifen."